大ストロークタイプ

NEXIV VMR-6555TZ（高倍率タイプ）

測定対象

• 高密度基板
• 基板露光マスク
• パッケージ（多数個）（2次元＋高さ）
• 基板用描画機

特長

• 120×の光学倍率で、微小線幅も測定可能
• 多彩な照明で、複雑な形状のエッジもシャープに検出
• 高N.A.かつ微小スポットの高精度TTLレーザAF
• 多機能かつユーザーフレンドリーな操作性
• 高速ステージと高速画像処理で高スループット

測定例

仕様

本体部
ストローク（X×Y×Z）
	（高倍対物使用時）	650×550×150mm
	（低倍対物使用時）	600×550×150mm
最小表示単位		0.1μm
被検物最大質量		30kg
測定精度
	U1X, U1Y	1.5 + 2.5L/1000μm （被検物質量30kg時）
	U2XY	2.5 + 2.5L/1000μm （被検物質量30kg時）
Z軸測定精度		1.5 + L/150μm
カメラ		白黒1/3型CCD（プログレッシブスキャン） カラー1/3型CCD
作動距離		高倍対物使用時 9.8mm　低倍対物使用時 32mm
倍率／視野		光学倍率 1〜120× 総合倍率 36〜4320× 視野 4.67×3..5〜0.039×0.029mm
オートフォーカス		TTLレーザAF／イメージAF
照明		垂直落射、透過（高倍ヘッドのみ）、暗視野照明
供給電源		AC100V±10%、50/60Hz
消費電流		最大7A
寸法（W×D×H）/質量
	本体	―
	本体＋測定台	1220×1680×1750mm／約600kg
	コントローラ	250×550×500mm／約31kg
設置寸法（W×D）		2400×2000mm
ホストコンピュータ
本体		IBM PC/AT互換機 (Windows®XP)
CRT		20型TFTカラー